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高纯镍片 Ni靶材磁控溅射金属薄膜 冶金工业合金耐腐蚀化工设备 南昌国材科技有限公司14年 月均发货速度:暂无记录 江西 南昌市 ¥10000.00 蒂姆新材料银靶材企业研发用磁控溅射靶材 1片起订可加工不同直径 蒂姆(北京)新材料科技有限公司7年 月均发货速度:暂无记录 ...
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磁性靶材不起辉是指在磁控溅射过程中，靶材未能产生预期的辉光放电，导致溅射无法正常进行。辉光放电是溅射过程中电子碰撞气体分子产生的发光现象，是靶材表面原子被溅射离开的必要条件。该现象对镀膜工艺及产品质量的影响：不起辉导致溅射过程无法进行，直接影响镀膜效率和产品产量。导致薄膜厚度不均匀，影响产品的功能性能...
氮化物和碳化物靶材具有高化学惰性、高熔点和高硬度等特点,可用于制备具有优异机械、光、电性质的陶瓷薄膜。常见的氮化物靶材有氮化铝、氮化硅、氮化镓等,常见的碳化物靶材有碳化硅、碳化钨等。 综上所述,磁控溅射用的靶材包括金属、合金、氧化物、硅酸盐、氮化物、碳化物等,在制备薄膜时,应根据不同的需求选择不同的靶...
绑定:大部分靶材由于材料的物理或者化学性能受限,不可直接装机镀膜使用,需要采用金属焊料将靶坯与背板相互焊合连接,并且表面有效粘结率需要达到大于 95%的大面积焊合,整个过程需要在高温和高压下进行。 磁控溅射靶材的分类 1.金属靶材:包括纯金属靶材(如铜、铝、镍等)和合金靶材(如不锈钢、铝合金等)。
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