抗冲击和磨损：在溅射过程中，靶材会受到高能粒子的连续轰击，因此需要具备足够的机械强度和硬度来抵抗冲击和磨损。高强度和高硬度的靶材能够延长使用寿命，减少更换频率，降低生产成本。例如，钛和钛合金靶材以其高强度和耐磨性在航空航天和生物医学领域得到广泛应用。综上，靶材的物理性能在很大程度上决定了溅射过程的稳...
通常,靶材的纯度应达到99.9%以上,以满足高精度薄膜制备的需求。 二、良好的均匀性 靶材的均匀性对于保证溅射过程的稳定性和薄膜的均匀性至关重要。均匀的靶材能够确保溅射出的粒子分布均匀,从而得到更加一致的薄膜厚度和性能。 三、适当的密度和结晶结构 靶材的密度和结晶结构也是影响溅射效果的关键因素。...
5. 表面光洁度:靶材的表面要具有较高的光洁度,表面粗糙度要小于1纳米。 三、磁控溅射靶材的制备技术 目前,制备磁控溅射靶材主要有以下几种技术: 1. 粉末冶金法:将高纯度的粉末按一定比例和工艺要求混合,再通过压制、烧结等工艺制备出靶材。 2. 熔化法:将高纯度的金属放入真空室中进行...
材料的纯度、晶体结构、机械性能、热稳定性、化学惰性、磁性等都会影响溅射过程和溅射膜的质量。因此,在选择靶材时,需要考虑材料性质是否适合磁控溅射工艺。 2.尺寸和形状 靶材的形状和尺寸直接影响磁控溅射的均匀性和效率。通常,靶材需要具备一定的厚度、直径和平面度等要求。 3.表面质量 靶材的表面平整度、去气孔...
一般来说,靶材制备需要保持良好的化学纯度,避免杂质对溅射过程的影响。此外,靶材的表面光洁度需要尽可能的高,这可以减小靶材表面的缺陷和粗糙度,提高溅射效率和膜的质量。 综上所述,磁控溅射对靶材的要求是非常苛刻的,需要综合考虑材料的化学、物理和结构因素;选择适合的尺寸;并优化靶材的制备和表面处理。这些要求...
金属靶的话，靶面和背板要平整，两者之间要绝缘，靶材和mask之间也要绝缘，金属的纯度要高
磁控溅射过程中,等离子体的离子撞击靶材,溅射出靶材的原子、原子团、离子、电子、光子等,原子、离子、原子团沉积到基材上形成薄膜。 溅射发生在靶材表面,靶材表面物理状态不均匀也没有关系,溅射的时候会先溅射凸起,溅射时间长了,靶材自己就平了。所以物理不均匀的状态不需要抛光。
磁控溅射靶材的承载功率分析? | 1、靶材面积与承载功率范围(1)圆形平面磁控靶功率密度范围一般为1~25瓦/cm2.(2)矩形平面磁控靶功率密度范围—般为1~36瓦/cm2。(3)柱状磁控靶、锥形平面磁控靶(S枪)功率密度范围一般为40~50瓦/cm2.2、磁控靶实际承载功率磁控靶的实际的承载功率除了与溅射工艺、薄膜的质量要求...
如果靶材是磁性的，它自身的磁场可以干扰到设备内部的磁场配置。这种干扰可能导致等离子体密度不均匀或溅射...