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铜靶材的作用：高纯度铜靶材：使用高纯度铜靶材能够确保沉积薄膜的均匀性和纯度，从而提高芯片的性能和可靠性。铜膜的沉积：通过控制PVD过程中的参数（如电源功率、基片温度、靶材到基片的距离等），可以精确控制铜膜的厚度和质量。技术优势与挑战：优势：PVD铜膜具有良好的导电性和良好的附着力，是理想的互连材料。
主营商品:金颗粒、银颗粒、铬颗粒、钴靶材、铌片、铝丝、铜颗粒、锗颗粒、钨舟、晶振片、单晶硅片 进入店铺 全部商品 09:52 c** 联系了该商品的商家 21:54 w** 联系了该商品的商家 21:52 a** 联系了该商品的商家 21:07 q** 联系了该商品的商家 08:45 k** 联系了该商品的商家 09:57 y** 联...
铜靶材是真空镀膜行业溅射靶材中的一种,是高纯铜或超高纯铜经过系列加工后的产品,具有特定的尺寸和形状高纯铜材料。溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成… 管理 百科 讨论 精华 等待回答 切换为时间排序 ...
铜溅射靶材的制备通常涉及多个步骤,主要包括原料准备、熔炼、铸造或粉末冶金处理、机械加工等,对铸造或粉末冶金处理后的靶材进行切割、研磨、抛光等机械加工,以获得所需的形状和尺寸,并确保靶材表面的清洁度和平整度。 1、铜溅射靶材的特点 高纯度:高纯度的铜靶材可以制备出低电阻的导电膜,满足高性能电子器件的需求 ...