### 四、特殊类型光刻机除了上述主流分类外，还有一些特殊类型的光刻机，如激光直写光刻机、电子束光刻机、离子束光刻机等。这些光刻机各有其独特的应用场景和技术优势。例如，激光直写光刻机利用激光束直接在晶圆表面绘制图案，无需掩模版，适用于小批量、多品种的生产需求；电子束光刻机和离子束光刻机则以...
一、按技术方式分类 根据技术方式的不同,可将光刻机分为接触式光刻机和非接触式光刻机两种类型。 1.接触式光刻机 在接触式光刻机中,掩模与光刻胶直接接触。因此,需要使掩模和光刻胶成为紧密的两层状,在此状态下,光通路画在掩模上,通过掩模的投影使光刻胶在光刻形状上方形变。这种方式的优点在于加工精度高...
根据使用的光源和曝光方式,光刻机可以被分为以下几类: 1.紫外光刻机:使用波长为365nm或248nm的紫外光源,通过遮光板或光掩膜进行曝光。紫外光刻机是目前最常用的光刻机之一,可用于生产各种半导体器件。 2.接触式和非接触式光刻机:根据曝光方式的不同,光刻机可以分为接触式和非接触式两种。接触式光刻机使用...
按光源分类,光刻机可以分为: 干式光刻机:使用可见光、紫外线等光源,如i-line、KrF、ArF光源,适用于较大工艺节点。 干式光刻示意图 浸没式光刻机:在干式基础上,通过在物镜与晶圆间填充高折射率液体(如水)来缩短实际曝光波长,提升分辨率,主要用于ArFi光刻机。 浸润式系统示意图 极紫外光(EUV)光刻机:采用13.5纳...
光刻机按光源类型可分为五类:I-line光刻机、KrF光刻机、ArF光刻机、ArFi光刻机(即ArF浸没式光刻机,与ArF光刻机相比在曝光过程中在投影物镜和晶圆之间放置了一层水膜)、EUV光刻机。按照应用领域可分为IC前道光刻机和IC后道光刻机。其中,IC前道光刻机主要应用于芯片制造,而后道光刻机主要用于芯片封装。
根据其特性和功能,光刻机可以分为接触式光刻机、投影式光刻机和纳米光刻机。本文将详细介绍这三种光刻机的分类以及各自的特点。 一、接触式光刻机 接触式光刻机是最早出现的光刻机类型之一。它采用的是将掩膜与照射物之间进行直接接触的方式来进行图形的转印。这种方式的优点是简单、容易操作,并且成本相对较低...
光刻机的分类。#光刻机 1.按照有无掩膜光刻机可分为有掩膜光刻机和无掩模光刻机,有掩膜光刻机目前 为产业广泛应用,历经 5 代已发展至 EUV 光刻机。(1)无掩模光刻:又称直写光刻机,分为电子束直写光刻、激光直写光刻、离子束 直写光刻,灵活性高但生产效率较低,一般用于集成电路器件原型的研制验证制作、...
一、光刻机的分类 1.按照光源不同可分为紫外光刻机和激光光刻机。紫外光刻机是采用紫外线进行照射曝光制作,而激光光刻机则是使用激光束进行曝光。 2.按照掩模制作方式可分为直接光刻和间接光刻。直接光刻是指掩模上已经形成了希望形状的光刻图形,而间接光刻则是通过显影和蚀刻等方式将掩模上的原形转...
光刻机根据其曝光方式和应用场景不同,可以分为接触式光刻机、非接触式光刻机、深紫外光刻机等多种种类。 一、基本原理与分类 光刻机是集光学、机械、电子和化学等多种技术于一体的半导体加工设备,其主要作用是将芯片电路布图镀上光阻。晶圆表面的芯片电路图形通过将...