根据其特性和功能,光刻机可以分为接触式光刻机、投影式光刻机和纳米光刻机。本文将详细介绍这三种光刻机的分类以及各自的特点。 一、接触式光刻机 接触式光刻机是最早出现的光刻机类型之一。它采用的是将掩膜与照射物之间进行直接接触的方式来进行图形的转印。这种方式的优点是简单、容易操作,并且成本相对较低...
一、直接写入曝光 直接写入曝光是最常用的曝光方式之一,通过光学系统将掩模图案直接映射到光刻胶上,再进行曝光固化。这种方式适用于小面积芯片加工。 二、菲涅尔透镜曝光 菲涅尔透镜曝光方式是一种间接曝光方式,透过输出设备将光图案通过菲涅尔透镜成像到光刻胶中。该方式适用于大面积芯片的加工,...