平板显示、半导体、触控等行业基本都采用掩膜版作为基准图案进行曝光复制量产,无掩膜光刻技术精度低,主要用于电路板行业。掩膜版光刻制作技术通常分为激光直写法和电子束直写法。激光直写法具有光刻速度更快、能制作大尺寸掩膜版的优点,但掩膜版精度不如电子束直写法。 1)激光直写...
掩膜版又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等,是微电子制造过程中的图形转移工具或母版,是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。 根据客户所需要的图形,掩膜版厂商通过光刻制版工艺,将微米级和纳米级的精细图案刻制于掩膜版基板上(掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微细光掩...
DMD无掩膜光刻技术是从传统光学光刻技术衍生出的一种新技术,因为其曝光成像的方式与传统投影光刻基本相似,区别在于使用数字DMD代替传统的掩膜,其主要原理是通过计算机将所需的光刻图案通过软件输入到DMD芯片中,并根据图像中的黑白像素的分布来改变DMD芯片微镜的转角,并通过准直光源照射到DMD芯片上形成与所需图形一致的...
根据光刻工艺所用到的不同光源，常见的掩膜版大致分为：二元掩膜版、相 移掩膜版、EUV 掩膜版。二元掩膜版是指由透光与不透光两种部分组成的光掩模 版，是最早出现、也是使用最多的一类掩模版，被广泛用于 365nm（I 线）至 193nm 的浸没式光刻。 相移掩膜版是指在相邻的透光缝隙处设置厚度与 1/2 光波长成正...
在当今高度数字化和智能化的时代,集成电路(IC)作为现代信息技术的核心,其性能和功能的不断提升对于推动科技进步和社会发展起着至关重要的作用。而光刻技术作为集成电路制造中的关键工艺之一,决定了芯片的特征尺寸和集成度。光刻掩膜版作为光刻工艺中的核心部件,其质量和性能直接影响到芯片的制造精度和良率。
1.1 掩膜版基本介绍：微电子制造过程中的图形转移母版 掩膜版（Photomask）又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微电子制造过程中的图形转移工具或母版，是图形设计和工 艺技术等知识产权信息的载体。在光刻过程中，掩膜版是设计图形的载体。通过光刻，将掩膜版上的设计图形转移到光刻 胶上，再经过刻蚀，将图形刻到...
有一个非常好的渠道：允许公开的信息和进展，大多都能在科创板上市公司的招股书里找到。一、龙图光罩，又一颗夜明珠 先做一个科普，在光刻过程中，尤其是低制程工艺，光的特性会严重影响产品的质量。光的干涉现象会降低曝光图形的对比度，导致CD精度降低。当掩模版的透光区间距离较短时，曝光过程中会出现干涉现...
一、光刻掩膜版的定义 光刻掩膜版(又称光罩,英文为Mask/Reticle),简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上1。 二、光刻掩膜版的构成 待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成1。
1.1 掩膜版简介 掩膜版又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版,是微电子制造领域中光刻工艺中所使用的图形母版。掩膜版的作用是将设计者的电路图形通过曝光的方式转移到下游行业的基板或晶圆上,从而实现批量化生产,是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。作为光刻复制图形的基准和蓝本,掩膜版是连接工业设计和工艺制造的...
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