真空淬火炉适用于对大、中型真空产品零部件的固溶处理及时效处理。真空高压气体淬火炉是一种非常 的真空热处理设备,其出色性能和 的设计提供了 的适用高速钢、模具钢、不锈钢、合金钢、钛合金等合金材料高 零件的真空光亮气淬、退火、磁性材料的烧结及快速冷却等特点。真空淬火炉是由加热炉罩和移动式底架组成的。方...
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半自动12英寸快速退火炉RTP 设备规格:适应于 2英寸-12英寸 晶圆或者最大支持 300mmx300mm 样品；退火温度范围 300℃-1000℃；升温速率 ≦100℃/sec(裸片)；温度均匀性 ≦±1%；真空腔体（可选配常压腔体或正压腔体）；冷却方式包括水冷和氮气吹扫；MFC控制，3-5路制程气体。桌上型4英寸快速退火炉RTP 设备规格:...
郑州科探仪器设备有限公司供应小型RTP快速退火炉供应产品,设备特点小型RTP快速退火炉桌面快速升降温钨片加热炉红外测温传感器小型RTP快速退火炉电炉为桌面式高温真空加热台。用于少量样品功能陶瓷,光学材料,碳复合材料,硬质合金,粉末冶金等在高温条件下进行快速升降温退
RTP快速退火炉与普通管式炉在多个方面存在很大的区别,主要包括加热方式、加热效率、温度范围、结构、安全性以及应用领域等。
RTP(Rapid Thermal Processing)快速退火炉是一种用于半导体材料处理的设备,其主要特点是在极短的时间内将硅片加热至特定的温度范围,通常为400~1300℃。这种快速热处理技术相比传统的炉管退火方法,具有诸多优势。 比较常用的RTP快速退火炉(点击图片查看产品详情) ...
仪器种类 管式炉 安晟1200℃RTP滑动式快速退火炉炉管两端安装真空法兰,真空度用分子泵可以到10-5Torr,机械泵可到10-3Torr。炉底安装一对滑轨,可用手动滑动。加热和冷却速率最大可达100°C/m。为取得较快加热,可以预先加热炉子到设定的温度,然后移动炉子到样品位置。为获得较快冷却,可在样品加热后移动炉子到另一...
RTP快速退火炉可用于砷化镓、硅以及其他半导体材料,离子注入后的退火、硅化物的形成、欧姆接触制备以及快速氧化、快速氮化等方面。RTP快速退火炉,快速热处理设备(RTP)具有快速升降温、慢速升降温、和长工作时间稳定等特点。也可用于各种半导体材料的CVD工艺的热处理。