光刻胶英文是PhotoResist，又称光致抗蚀剂，由感光美料裂袁虽永菜树脂、增感剂（见光谱增感染料）和...
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X射线光刻胶 由于X射线具有很强的穿透能力,深紫外波段的光刻胶对X射线的吸收率很低,只有少SC250-030数人射的X射线能对光化学反应做贡献,通常深紫外曝光的光刻胶在X射线波段灵敏度都非常低,其曝光效率要下降1~2个数量级。因此,提高X射线光刻胶的灵敏度是光刻胶发展的重要方向。提高X射线光刻胶灵敏度的主要...
第二卷第二期1989年6月功能高分子学报Functionl1P~meTV012.N02June.1989X一射线光刻胶的研究史天又黄谦(中国科学技术是学材料科学与工程系.合肥)搞要合成了甲基丙烯酸缩水甘油酯与甲基丙烯酸氯乙酯和甲基丙烯酸氯乙酯与甲基丙烯酸甲醋共聚物,并研究了该共聚物的分子量分布、鲒构和热稳定性能.研究了甲基丙烯酸缩水甘油...
光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、X射线等照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻材料。下图是某种光刻胶的光交联反应。下列说法错误的是 A. 物质甲的单体存在顺反异构 B. 物质甲中碳原子的杂化方式有两种 C. 甲转化为乙的反应类型为加聚反应 D. 物质乙可发生取代反应和氧化反应 相关知识点: 试题...
韩国进口X射线光刻胶厂商直供 Photoresist Korea Origin X-ray resist 点击图片查看原图 品牌: Korea Origin X-ray resist 单价: 面议 起订: 面议 供货总量: 面议 原产地: 东亚- 韩国 浏览次数: 1201公司基本资料信息[Company Info] 日本光刻胶厂商经销商供应商出口公司 Photoresist Factories|Photoresist ...
3光刻胶,又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X 射线等光源的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻材料。按照下游应用场景不同,光刻胶可分为半导体光刻胶、LCD 光刻胶和PCB光刻胶。光刻胶广泛应用于战斗机的外表隐身材料。这说明( )①尊重联系的普遍性、客观性,可以促进事物发展②...
怎么总有些人明明不懂 还上来答非所问 是炫耀自己的无知吗？正答：HSQ是电子束胶，但也可以紫外曝光；但HSQ精度在5纳米左右，用紫外曝光是浪费了。
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