一般坚膜烘焙温度控制在180℃-200℃之间。 一、坚膜烘焙的特点及影响: 坚膜烘焙(又称“砖烤”或“石烤”)是一种烘焙方式,它在烤箱中加热烤砖或烤石,然后将烤石温度传递给食品,实现快速而均匀的热传递,从而使面包、披萨等食品可以烘焙出外表金黄、内部松软的效果。坚膜烘焙的特点在于能够快速将面...
在显影后,由于硅片接触到水分,光刻胶会吸收一些水分,这对后续的工艺,如湿发刻蚀不利。TA7504M于是需要通过坚膜烘焙(hard bake)来将过多的水分驱逐出光刻胶。由于现在刻蚀大多采用等离子体刻蚀,叉称为“干刻”,坚膜烘焙在很多工艺当中已被省去。 测量 在曝光完成后,需要对光刻所形成的关键尺寸以及套刻精度进行测...
摘要 本发明公开了一种ITO光刻胶坚膜烘焙调控装置,涉及LCD显示技术领域。本发明中第一固定边板上固定在设有第二伸缩动力装置;第二伸缩动力装置的输出轴上设有第二伸缩连杆;第二伸缩连杆的端侧固定连接有第二支撑横板;第二支撑横板上装设有若干均匀分布的加热装置和若干温度传感装置。本发明通过传送带板将ITO光刻胶...
预处理→涂胶→对准和曝光→软烘→曝光后烘焙→坚膜烘焙→显影→显影检查 相关知识点: 试题来源: 解析 C 正确答案:C 答案解析:光刻工序的正确操作步骤为预处理→涂胶→软烘→对准和曝光→曝光后烘焙→显影→坚膜烘焙→显影检查。反馈 收藏
坚膜烘焙在加热平板上进行,温度控制在( )。 A. 100℃ B. 130℃～200℃ C. 110～130℃ D. 85～120℃ 如何将EXCEL生成题库手机刷题 如何制作自己的在线小题库 > 手机使用 分享 反馈 收藏 举报 参考答案: B 复制 纠错举一反三 Which of the following rhetorical devices is used in the two brand...
___(1)气相成底膜;(2)旋转涂胶;(3)软烘;(4)对准和曝光;(5)曝光后烘焙(PEB);(6)显影;(7)坚膜烘焙;(
百度试题 题目不管是软烘还是坚膜,常常采用的加热方式包括: A.烘箱B.红外C.热板D.真空烘焙相关知识点: 试题来源: 解析 A,B,C,D 反馈 收藏
坚膜烘焙 光刻中显影后的热烘即坚膜烘焙。坚膜烘焙要求挥发掉存留的光刻胶溶剂，提高光刻胶对硅片表面的粘附性。这一步是稳固光刻胶，对后面的刻蚀和离子注入过程非常关键。正性光刻胶的坚膜烘焙温度约为120到140度，这比软烘温度要高，但也不能太高，否则光刻胶就会流动从而破坏图形。