光刻掩膜版(又称光罩,英文为Mask Reticle),简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。 待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得,常用加工设备为直写式光刻...
光罩(Mask) 在半导体集成电路制造工艺流程中,在光刻工艺过程中使用的带有微电路的玻璃板。 光罩是利用电子激光设备在玻璃板上绘制已设计好的电路图案而制成的。 光刻工艺是在晶圆上绘制电子电路的步骤。在半导体芯片上的树百万个电子元件和连接它们的电路线都由此绘制而成。将光罩放置在设备中,通过光线照射穿过,在涂...
掩模版(Photomask)又称光罩、光掩模、光刻掩模版、掩膜版、掩膜板等,是光刻工艺中关键部件之一,是下游行业产品制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具,是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。掩模版用于下游电子元器件制造业批量生产,是下游行业生产流程衔接的关键部分,是下游产品精度和质量的决定因素之一。
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光刻版/光罩是光刻技术中用于控制光线传输的重要工具。其主要功能是通过光照、显影等步骤,在表面上形成所需的微米级图案,从而实现微纳加工中的精密制造。 光刻版的组成 常规光刻版通常由以下几部分组成:1、基板:通常为高透光率的材料,石英、玻璃等等;2、遮光材料,通常...
光罩是半導體業、IC(積體電路)製作時所需的一種模具，其係利用光罩上之圖形，經曝光之製程將圖形覆製於晶圓（WAFER）。光罩廠依據客戶設計之圖形,將圖形資料轉換後，利用光罩曝光機曝光於一感光之石英基材(Blank)，經微影製程使光罩表面產生透光與不透光之極細微的邏輯圖型。附:1.用最簡單的方法告訴你光罩是什麼...
掩膜版又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等,是微电子制造过程中的图形转移工具或母版,是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。 根据客户所需要的图形,掩膜版厂商通过光刻制版工艺,将微米级和纳米级的精细图案刻制于掩膜版基板上(掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微细光掩...
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