(3)酸浸法制取硫酸铜的流程示意图如下: ①步骤(i)中Cu2(OH)2CO3发生反应的化学方程式为。 ②步骤(ii)所加试剂起调节pH作用的离子是(填离子符号)。 ③在步骤(iii)发生的反应中,1molMnO2转移2个mol电子,该反应的离子方程式为。 ④步骤(iv)除去杂质的化学方程式可表示为 ...
(2)酸浸法制取硫酸铜的流程示意图如下 ①步骤(ii)所加试剂起调节pH作用的离子是HCO3-(填离子符号). ②在步骤(iii)发生的反应中,1mol MnO2转移2mol电子,该反应的离子方程式为MnO2+2Fe2++4H+=Mn2++2Fe3++2H2O. ③步骤(iv)除去杂质的化学方程式可表示为:3Fe3++NH4++2SO42-+6H2O=NH4Fe3(SO4)2(OH)...
(1)滤渣中存在一种非金属单质,则酸浸过程中的化学方程式为___。 (2)实验室常用氧化还原法测定MnSO4·H2O晶体的纯度,原理如下:2Mn2++NO3-+4PO43-+2H+===2[Mn(PO4)2]3-+NO2-+H2O NH4++NO2-===N2↑+2H2O [Mn(PO4)2]3-+Fe2+===Mn2++[Fe(PO4)2]3-;称取MnSO4·H2O样品1.000 0 g,溶...
,利用化合价升降法配平,反应方程式为4CeFCO 3 + O 2 3 CeO 2 + CeF 4 +4CO 2 。 ② 酸浸过程中,+4价Ce被还原为+3价,HCl被氧化生成有毒气体氯气,污染环境。用稀硫酸和H 2 O 2 替换盐酸,H2O2的氧化产物为氧气,不释放氯气,减少对环境的污染 。 ③ 反应:Ce(BF 4 ) 3 (s) + 3K + (aq)...
(1)熔炼物酸浸前通常要进行粉碎,其目的是:提高铍元素的浸出速率和浸出率. (2)“蒸发结晶离心除铝”若在中学实验室中进行,完整的操作过程是蒸发浓缩、冷却结晶洗涤、过滤. (3)“中和除铁”过程中“中和”所发生反应的离子方程式是H + +NH 3 •H 2 O=NH 4 + +H 2 O,用平衡原理解释“除铁”...
据图中信息,给出使反应停止的方法: 。(3)酸浸法制取硫酸铜的流程示意图如下:①步骤(i)中Cu2(OH)2CO3发生反应的化学方程式为 。②步骤(ii)所加试剂起调节pH作用的离子是 (填离子符号)。③在步骤(iii)发生的反应中,1molMnO2转移2 mol电子,该反应的离子方程式为:。④步骤(iv)除去杂质的化学方程式可表示为...
(2)在反应①中得到的粗硅含有铁、铝、碳等杂质,酸浸的目的是 . (3)精馏原理和蒸馏原理相同,该原理是 . (4)写出反应①和反应③的化学方程式: 反应① ; 反应③ . A. 无色溶液中:ClO-、MnO 、Al3+、K+ B. 1.0 mol·L-1的NaAlO2溶液中:Cl-、HCO 、K+、Ca2+ C. 在强碱性环境中:AlO ...
20.硫酸法是现代氧化铍或氢氧化铍生产中广泛应用的方法之一,其原理是利用预焙烧破坏铍矿物(绿柱石-3BeO•Al 2 O 3 •6SiO 2 及少量FeO等)的结构与晶型,再采用硫酸酸解含铍矿物,使铍、铝、铁等酸溶性金属进入溶液相,与硅等脉石矿物初步分离,然后将含铍溶液
【题目】在半导体工业中有这样一句行话:“从沙滩到用户”.高纯硅是电子信息工业的关键材料,目前我国制备高纯硅主要采用三氯氢硅氢还原法,其主要工艺流程如图所示: (1)在制取粗硅的反应①中,焦炭的作用是 ;制取高纯硅的反应⑤的反应类型是 . (2)在反应①中得到的粗硅含有铁、铝、碳等杂质,酸浸的目的是 ...
。②酸浸过程中盐酸被氧化生成氯气,氯气是大气污染物,因此酸浸过程中用稀硫酸和H 2 O 2 替换盐酸可以不释放氯气,减少对环境的污染。③根据方程式可知反应的平衡常数K= ;④ NH 4 Cl 固体分解产生的 HCl 可以抑制 CeCl 3 的水解,所以加热CeCl 3 ·6H 2 O和NH 4 Cl的固体混合物可得固体无水CeCl 3 。...