《半导体先进光刻理论与技术》作者:化学工业出版社,出版社:2023年8月 第1版,ISBN:198.00。本书是半导体优选光刻领域的综合著作,介绍了当前主流的光学光刻、优选的极紫外光刻以及下一代光刻技术。主
本书是半导体先进光刻领域的综合性著作,介绍了当前主流的光学光刻、先进的极紫外光刻以及下一代光刻技术。主要内容涵盖了光刻理论、工艺、材料、设备、关键部件、分辨率增强、建模与仿真、典型物理与化学效应等,包括光刻技术的前沿进展,还总结了极紫外光刻的特点、存在问题与发展方向。书中融入了作者对光刻技术的宝贵理...
《半导体先进光刻理论与技术》阅读札记 一、光刻技术基础理论 光刻技术是半导体制造工艺中的核心环节,是集成电路制造过程中不可或缺的关键步骤。在深入阅读《半导体先进光刻理论与技术》我对光刻技术的基础理论有了更为深刻的理解。 简单来说,是一种通过光学、化学和机械手段,在半导体材料上精确地转移图形的技术。其...
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这些问题的解决需要不断的技术创新和研发努力。精彩摘录《半导体先进光刻理论与技术》这本书详细介绍了光刻技术的理论和实践,其中包括了光刻技术的发展历程、原理和组成以及在半导体制造中的应用和挑战等多个方面。通过阅读这本书,我对于光刻技术有了更深入的了解和认识,也对于半导体制造有了更全面的认识和理解。这...
光刻位于集成电路制造工艺的中心,是芯片制造的核心技术之一。 由中国科学院上海光学精密机械研究所李思坤研究员倾力翻译的光刻技术综合性著作——《半导体先进光刻理论与技术》正式出版! 本书原著获行业专家好评推荐,中文引进版特邀中国科学院院士、原著作者作序。
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