如图1,三层结构tri-layer包含了光刻胶/SiARC/SOC三种材料,光刻胶用来曝光显影生成光刻图形,SiARC是一种含Si的抗反射涂层,可以起到抗反射作用和提供较高的刻蚀选择比,SOC是一种碳涂层,也叫旋涂的碳(spin-on-carbon),主要用来旋涂在衬底上,起到填充填平的作用 图1:光刻三层材料tri-layer结构 这三层材料在工艺旋...
二、结构组成:1、光源系统:这是光刻机的核心部分,用于产生光刻所需的光源。光源系统通常包括激光器、激光光束整形器和光束稳定器等部件。激光器负责产生高强度、高稳定性的激光光束,激光光束整形器则对激光光束进行调整和整形,使其具备适合光刻的特性。光束稳定器则用于保持光源输出的稳定性,确保光刻的准确性和一...
光刻机的结构由以下几个主要组成部分组成: 1.照明系统:照明系统是光刻机中的关键部分,它提供所需的光源,并通过透镜系统将光传递到光刻模板上。光源通常采用紫外线灯,因为紫外线具有较短的波长,有助于实现更高的分辨率。 2.掩模(光刻模板):掩模是一种光刻工艺所需的模板,上面有微细的图案。它由光刻胶覆盖,通...
光刻机的结构可以分为以下几个部分。 一、光源系统 光刻机的光源系统是指提供光源的部分,它通常由激光器和光学系统组成。激光器是产生高功率、高稳定性的激光光源的关键部件,而光学系统则负责将激光束聚焦到光刻胶上,以实现图形的投影。 二、掩膜系统 掩膜系统是光刻机中用于制作掩膜的部分。掩膜是一种具有特定...
光刻机结构组成及工作原理 描述 光刻机介绍 光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System. 光刻机分类: 光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动 A 手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y...
86页PPT,详解光刻机原理工艺和结构 光刻机是一种制造芯片所需的机器,它又叫做曝光机,也可以称之为曝光系统或者光刻系统,它是目前世界上已经制造出来的最为精密的仪器之一。光刻机被发明出来,最主要的目的就是为了将半导体制成芯片。它可以通过精确的纳米技术,将结构极为复杂的芯片最终按照设计图纸制造出来。光...
1.光刻机的结构 光刻机主要由以下几个部分组成: 1)光源:光刻机采用紫外线光源,如氙灯或氩离子激光器等。这些光源具有高亮度和短波长的特点,能够提供高强度的紫外线光线。 2)掩膜:掩膜是在光刻机上放置的带有电路图案的透明光板。其图案按照所需的电路线路布局进行设计,并且图案中的不同区域对应不同的光刻区域...
光刻机的结构通常包括以下几个部分: 1.曝光系统:曝光系统是光刻机的核心部件,它主要由光源、准直系统、投影系统和掩膜台组成。光源产生紫外线光或深紫外光,准直系统将光束整形成平行光线,投影系统将图案投射到硅片上,掩膜台用于固定和对准掩膜和硅片。 2.物质传递系统:物质传递系统负责将硅片从供料台取出并转移到...
光刻与光刻机 ➢对准和曝光在光刻机(Lithography Tool)内进行。 ➢其它工艺在涂胶显影机(Track)上进行。 光刻机结构及工作原理 ➢光刻机简介 ➢光刻机结构及工作原理 * 微电子装备 芯片设计能力 芯片制造与制造设备 芯片测试与测试设备 设备是信息产业的源头: ...