1、Chapter 1oasis文件简介oasis是用来表示光刻版图的一种文件格式,上面记录了光刻图案。作为gdsii文件的替代格式,和gdsii类似是一种流格式的文件。一般性的介绍可以google到。这里就不再累述。这篇文档,是对参考文献【1】的注释和部分翻译。第一为了方便阅读,对文献【1】中的一些概念和例子进行了解读说明;第二对文献...
光刻版图设计中的一些注意事项.ppt,光刻版图设计中的注意事项 目录 原则 光刻版的方向问题 对版标记图形的选择 第一层版的设计 暗版的设计 亮版的设计 PCM 工艺检测图形的设计 背面对版标记的设计 关于制版的原则 在设计允许的前提下,工艺宽容度留得越大公艺就会越顺利 大
图1为本发明实施例光刻版图的形成方法的流程示意图;图2 图8为本发明实施例光刻版图的形成方法的结构示意图。 具体实施例方式半导体器件(芯片)制作完成后,在封装过程中,通常要将晶圆沿切割道切割成一个一个独立的芯片,现有对晶圆的刀片切割技术包括首先利用研磨机的磨轮对晶圆的背部进行减薄(backside grinding),接着利...
5.然后选中array,点击工具栏的打散按钮将阵列打散,得到电子束光刻对准标记。然后选择File-->Import Mask...
光刻版图设计中的注意事项目录原则光刻版的方向问题对版标记图形的选择第一层版的设计暗版的设计亮版的设计PCM 工艺检测图形的设计背面对版标记的设计关于制版的原则在设计允许的前提下,工艺宽容度留得越大公艺就会越顺利大图形和小图形的尺寸的比例不要
高集成度多标记光刻版版图的快速处理技术 0 引言 光刻技术最早应用于半导体分立器件和集成电路中的微细加工。光刻技术是现代半导体、微电子、信息产业的基础;在发光二极管、平板显示、先进封装、磁头及精密传感器等泛半导体行业中有着广泛的应用。随着各行业技术的不断提升,作为微电子技术工艺基础的微光刻技术[1-3]在...
oasis是用来表示光刻版图的一种文件格式,上面记录了光刻图案。作为gdsii文件的替代格式,和gdsii类似是一种流格式的文件。一般性的介绍可以google到。这里就不再累述。 这篇文档,是对参考文献【1】的注释和部分翻译。第一为了方便阅读,对文献【1】中的一些概念和例子进行了解读说明;第二对文献【1】中容易忽略和混淆...
Chapter1oasis文件简介oasis是用来表示光刻版图的一种文件格式,上面记录了光刻图案。作为gdsii文件的替代格式,和gdsii类似是一种流格式的文件。一般性的介绍可以google到。这里就不再累述。这篇文档,是对参考文献【1】的注释和部分翻译。第一为了方便阅读,对文献【1】中的一些概念和例子进行了解读说明;第二对文献【1...
摘要 一种光刻版图、光刻胶图形及测量光刻胶图形曝光误差的方法,其中,所述光刻版图包括:第一单元区图形,所述第一单元区图形为矩形;位于所述第一单元区图形四个顶角外侧的四个第一标记图形,所述第一标记图形为“L”形,所述“L”形的两边分别与构成所述第一单元区图形顶角的相邻两边平行;位于所述第一单元区...
光刻检测图形及光刻版版图专利信息由爱企查专利频道提供,光刻检测图形及光刻版版图说明:本发明公开了一种光刻检测图形及光刻版版图,其中,所述检测图形至少由三组条形组组成,每一所述条形...专利查询请上爱企查