コールドスプレーにおいて,相互相関PIVにより得られる溶射粒子の速度と,それに対応する粉末の平均直径について,相互相関PIVの原理に基づいて一次元の粒子の流れを用いて考察した.プロセスガスは窒素ガスの場合とヘリウムガスの場合を考え,それぞれ貯気圧2MPa,貯気温度